Contact hole printing beyond 190NM in photolithography processing using resolution enhancement techniques

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Cheong Yew Shun (Autor)
Korporativní autor: Universiti Malaysia Perlis
Médium: Diplomová práce Kniha
Jazyk:English
Vydáno: Kangar Universiti Malaysia Perlis (UniMAP) 2008
Témata:
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
Popis
Popis jednotky:Tesis 2008
Fyzický popis:xiii, 128p. ill. 30cm.