Contact hole printing beyond 190NM in photolithography processing using resolution enhancement techniques

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Dettagli Bibliografici
Autore principale: Cheong Yew Shun (Autore)
Ente Autore: Universiti Malaysia Perlis
Natura: Tesi Libro
Lingua:English
Pubblicazione: Kangar Universiti Malaysia Perlis (UniMAP) 2008
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Descrizione
Descrizione del documento:Tesis 2008
Descrizione fisica:xiii, 128p. ill. 30cm.