Contact hole printing beyond 190NM in photolithography processing using resolution enhancement techniques

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Cheong Yew Shun (VerfasserIn)
Körperschaft: Universiti Malaysia Perlis
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Kangar Universiti Malaysia Perlis (UniMAP) 2008
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