Contact hole printing beyond 190NM in photolithography processing using resolution enhancement techniques

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Cheong Yew Shun (Autor)
Autor Corporativo: Universiti Malaysia Perlis
Formato: Tesis Libro
Lenguaje:English
Publicado: Kangar Universiti Malaysia Perlis (UniMAP) 2008
Materias:
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