Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /

The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Mohammad Nuzaihan Bin Md Nor (مؤلف)
مؤلف مشترك: Universiti Malaysia Perlis
التنسيق: أطروحة برمجيات كتاب الكتروني
اللغة:English
منشور في: Kangar Universiti Malaysia Perlis (UniMAP) 2007.
الموضوعات:
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
الوصف
الملخص:The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
وصف المادة:Tesis 2007
Accompanied by CD-ROM (901000006)
وصف مادي:xxv, 108 p. ill. 30 cm. + 1 CD-ROM (4 3/4 in.)