Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Đã lưu trong:
Tác giả chính: | |
---|---|
Tác giả của công ty: | |
Định dạng: | Luận văn Phần mềm eBook |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
Những chủ đề: | |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Tóm tắt: | The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method. |
---|---|
Mô tả sách: | Tesis 2007 Accompanied by CD-ROM (901000006) |
Mô tả vật lý: | xxv, 108 p. ill. 30 cm. + 1 CD-ROM (4 3/4 in.) |