Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Korporativní autor: | |
| Médium: | Diplomová práce Program E-kniha |
| Jazyk: | English |
| Vydáno: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
| Témata: | |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|
Právě probíhá údržba systému
Právě probíhá údržba knihovního systému.
V současné době nejsou dostupné informace o dostupnosti. Omlouváme se Vám za nepříjemnosti. Neváhejte nás kontaktovat a my se pokusíme zjistit požadované informace jinou cestou: