Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Співавтор: | |
| Формат: | Дисертація Програмне забезпечення eКнига |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
| Предмети: | |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|