Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Sábháilte in:
| Príomhchruthaitheoir: | |
|---|---|
| Údar corparáideach: | |
| Formáid: | Tráchtas Bogearraí Ríomhleabhar |
| Teanga: | English |
| Foilsithe / Cruthaithe: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
| Ábhair: | |
| Clibeanna: |
Cuir clib leis
Níl clibeanna ann, Bí ar an gcéad duine le clib a chur leis an taifead seo!
|
Cothabháil á déanamh ar an gcóras
Níl fáil ar ár mbunachar sonraí beo faoi láthair.
Labhair le ball foirne sula gcuirfidh tú iarratas isteach toisc go bhféadfadh sé nach bhfuil an fhaisnéis atá á taispeáint anseo cothrom le dáta.