Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Gardado en:
| Autor Principal: | |
|---|---|
| Autor Corporativo: | |
| Formato: | Thesis Software eBook |
| Idioma: | English |
| Publicado: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
| Subjects: | |
| Tags: |
Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
|
Sistema en mantemento
O noso Sistema de Biblioteca atópase en mantemento
Neste momento non hai información de existencias e dispoñibilidade de copias. Por favor acepte as nosas desculpas polos inconvenientes causados, contacte connosco para unha maior información