Study of aspect ratio performance on silicon oxide etching using profiler meter, AFM and SEM
The scope of this final year project is to get a high aspect ratio for etch profile using wet etching technique. After etching process using Buffered Oxide Etch (BOE), the structure profile had to viewed under profiler meter, Atomic Forces Microscopy (AFM) Scanning Electron Microscope (SEM).
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | |
|---|---|
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক সফটওয়্যার উপাত্তকোষ |
| ভাষা: | English |
| বিষয়গুলি: | |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
পদ্ধতিটি রক্ষণাবেক্ষণের অধীনে
বর্তমানে আমাদের গ্রন্থাগার ব্যবস্থাপনা পদ্ধতিটি রক্ষণাবেক্ষণের অধীনে।
হোল্ডিংস এবং উপাদানটির প্রাপ্যতা বর্তমানে অনুপলব্ধ। আপনার সবরকম অসুবিধার জন্য আমরা দুঃখিত এবং অন্যান্য সহায়তার জন্য আমাদের সাথে যোগাযোগ করুনঃ