Optimization of nitride deposition process using Taguchi method

This final year project is mainly focused on obtaining the most optimize parameters of PECVD Si3N4 deposition process by using DOE. The Taguchi method of DOE will be used in performing optimization of the deposition process. Raw data for the deposition process is provided by the deposition module fr...

Πλήρης περιγραφή

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριος συγγραφέας: Low, Zen Shiang (Συγγραφέας)
Μορφή: Ηλεκτρονική πηγή Λογισμικό Βάση Δεδομένων
Γλώσσα:English
Θέματα:
Ετικέτες: Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!

Παρόμοια τεκμήρια