Optimization of nitride deposition process using Taguchi method
This final year project is mainly focused on obtaining the most optimize parameters of PECVD Si3N4 deposition process by using DOE. The Taguchi method of DOE will be used in performing optimization of the deposition process. Raw data for the deposition process is provided by the deposition module fr...
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Elettronico Software Database |
| Lingua: | English |
| Soggetti: | |
| Tags: |
Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !
|
Sistema in manutenzione
Il sistema di gestione della nostra biblioteca in questo momento è in manutenzione.
Le informazioni sulla disponibilità delle copie non sono disponibili. Ci scusiamo per l'inconveniente. Per assistenza puoi contattarci: