Optimization of nitride deposition process using Taguchi method
This final year project is mainly focused on obtaining the most optimize parameters of PECVD Si3N4 deposition process by using DOE. The Taguchi method of DOE will be used in performing optimization of the deposition process. Raw data for the deposition process is provided by the deposition module fr...
Zapisane w:
| 1. autor: | |
|---|---|
| Format: | Elektroniczne Oprogramowanie Baza danych |
| Język: | English |
| Hasła przedmiotowe: | |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|
Z powodu przeglądu technicznego niedostępne
Niestety! Z powodu przeglądu technicznego system jest niedostępny.
Niestety! Status dostępu obecnie nie stoi do dyspozycji - skontaktuj się z biblioteką.