Optimization of nitride deposition process using Taguchi method
This final year project is mainly focused on obtaining the most optimize parameters of PECVD Si3N4 deposition process by using DOE. The Taguchi method of DOE will be used in performing optimization of the deposition process. Raw data for the deposition process is provided by the deposition module fr...
Shranjeno v:
| Glavni avtor: | |
|---|---|
| Format: | Elektronski Software Database |
| Jezik: | English |
| Teme: | |
| Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
Vzdrževanje sistema
Trenutno vzdržujemo knjižnični informacijski sistem.
Informacije o zalogi so trenutno nedostopne. Opravičujemo se za nevšečnosti in vas prosimo da nas ponovno kontaktirate: