Simulation of 0.35 Um NMOS process based on UniMAP Cleanroom facilities
The goal of this project is to simulate a 0.35um negative-metal-oxide-semiconductor (NMOS) process based on UniMAP cleanroom facilities and to study the feasibility of adopting this process using cleanroom facilities. The result of the simulation will be compared with UC Berkeley 0.35um process desi...
保存先:
| 第一著者: | |
|---|---|
| フォーマット: | 電子媒体 ソフトウェア データベース |
| 言語: | English |
| 主題: | |
| タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
このレコードへの初めてのコメントを付けませんか!