Mohamad Fadzli Ali. Study of the thickness of the silicon dioxide on wafer using dry and wet oxidation method.
Citace podle Chicago (17th ed.)Mohamad Fadzli Ali. Study of the Thickness of the Silicon Dioxide on Wafer Using Dry and Wet Oxidation Method.
Citace podle MLA (8th ed.)Mohamad Fadzli Ali. Study of the Thickness of the Silicon Dioxide on Wafer Using Dry and Wet Oxidation Method.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..