Study of the temperature effect on thickness and surface roughness of Si02
The aims of this final year project is to study the oxidation temperature effect over the oxidation process, to study the reason why the temperature 1100℗ðC which is commonly used for the oxidation process, and to study and find the suitable time to get the optimum result for the oxidation process....
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | |
|---|---|
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক সফটওয়্যার উপাত্তকোষ |
| ভাষা: | English |
| বিষয়গুলি: | |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|