Study of the temperature effect on thickness and surface roughness of Si02
The aims of this final year project is to study the oxidation temperature effect over the oxidation process, to study the reason why the temperature 1100℗ðC which is commonly used for the oxidation process, and to study and find the suitable time to get the optimum result for the oxidation process....
Guardat en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Format: | Electrònic Software Base de dades |
| Idioma: | English |
| Matèries: | |
| Etiquetes: |
Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|
Sistema fora de servei per tasques de manteniment
El catàleg està fora de servei temporalment per tasques de manteniment
La informació de disponibilitat dels exemplars no està disponible en aquests moments, sentim les inconveniències: