Study of the temperature effect on thickness and surface roughness of Si02
The aims of this final year project is to study the oxidation temperature effect over the oxidation process, to study the reason why the temperature 1100℗ðC which is commonly used for the oxidation process, and to study and find the suitable time to get the optimum result for the oxidation process....
Tallennettuna:
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Aineistotyyppi: | Elektroninen Tietokoneohjelma Tietokanta |
| Kieli: | English |
| Aiheet: | |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
Järjestelmä pois käytöstä
Kirjastojärjestelmä on juuri nyt pois käytöstä.
Saatavuustiedot eivät ole juuri nyt käytettävissä. Pahoittelemme tästä aiheutunutta vaivaa. Voitte ottaa yhteyttä: