Study of the temperature effect on thickness and surface roughness of Si02
The aims of this final year project is to study the oxidation temperature effect over the oxidation process, to study the reason why the temperature 1100℗ðC which is commonly used for the oxidation process, and to study and find the suitable time to get the optimum result for the oxidation process....
Na minha lista:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Recurso Electrónico Software Base de Dados |
| Idioma: | English |
| Assuntos: | |
| Tags: |
Adicionar Tag
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|
Sistema em Manutenção
O nosso Sistema de Gestão da Biblioteca está em manutenção.
A informação da disponibilidade do(s) exemplar(es) não está isponível de momento; por favor, aceite as nossas desculpas por qualquer inconveniente que isso possa causar e contacte-nos para obter ajuda: