Study of the temperature effect on thickness and surface roughness of Si02
The aims of this final year project is to study the oxidation temperature effect over the oxidation process, to study the reason why the temperature 1100℗ðC which is commonly used for the oxidation process, and to study and find the suitable time to get the optimum result for the oxidation process....
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Формат: | Електронний ресурс Програмне забезпечення База даних |
| Мова: | English |
| Предмети: | |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Технічні роботи в бібліотечній системі
Наразі у нашій бібліотечній системі ведуться технічні роботи.
Замовлення та інформація про доступність примірників наразі недоступна. Приносимо наші вибачення. Зверніться до Бібліотеки за допомогою: