Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
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| Autor principal: | |
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| Autor Corporativo: | |
| Formato: | Tese Livro |
| Idioma: | English |
| Publicado em: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
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| Descrição Física: | xvi, 47 pages : illustrations (some color) ; 30 cm. + 1 computer optical disc (4 3/4 in.). |
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