Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلف مشترك: | |
| التنسيق: | أطروحة كتاب |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!