Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
Tallennettuna:
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Yhteisötekijä: | |
| Aineistotyyppi: | Opinnäyte Kirja |
| Kieli: | English |
| Julkaistu: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
|
| Aiheet: | |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
Lisää ensimmäinen kommentti!