Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
Gardado en:
| Autor Principal: | |
|---|---|
| Autor Corporativo: | |
| Formato: | Thesis Libro |
| Idioma: | English |
| Publicado: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
|
| Subjects: | |
| Tags: |
Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
|
Sexa o primeiro en deixar un comentario!