Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
שמור ב:
| מחבר ראשי: | |
|---|---|
| מחבר תאגידי: | |
| פורמט: | Thesis ספר |
| שפה: | English |
| יצא לאור: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
|
| נושאים: | |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
היה/י הראשונ/ה לכתוב הערה!