Effect of substrate position on TiO2 thin film properties by using chemical-vapor deposition (CVD) method
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Співавтор: | |
| Формат: | Дисертація Книга |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Batu Pahat :
Universiti Tun Hussein Onn Malaysia ,
2015.
|
| Предмети: | |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Будьте першим, хто залишить коментар!