Fabrication of silicon nanowires using scanning electron microscope based electron beam lithography method /
The goal of this research work is to form and produce very small nanowires using a Top-Down Nanofabrication Method which involved Scanning Electron Microscope (SEM) based Electron Beam Litography (EBL) method.
Сохранить в:
| Главный автор: | |
|---|---|
| Соавтор: | |
| Формат: | Диссертация Программное обеспечение eКнига |
| Язык: | English |
| Опубликовано: |
Kangar
Universiti Malaysia Perlis (UniMAP)
2007.
|
| Предметы: | |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
Ваш комментарий будет первым!