Comparison of etching optimization process by taguchi method using minitab and design expert software
A design of experiment for high throughput pad etch by reactive ion etch is reported. Design of Experiment (DOE) is a technique for optimizing process which has controllable inputs and measurable outputs. The L9 orthogonal array DOE using Taguchi method is applied for Passivation Module (Pad Etch)...
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Формат: | Електронний ресурс Програмне забезпечення База даних |
| Мова: | English |
| Предмети: | |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Будьте першим, хто залишить коментар!