Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.