Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
Παραπομπή σε μορφή Chicago (17η εκδ.)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Παραπομπή σε μορφή MLA (8th εκδ.)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Πρόσοχή: Οι παραπομπές μπορεί να μην είναι 100% ακριβείς.