Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 8)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..