Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
Цитирование в стиле Чикаго (17-е изд.)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Цитирование MLA (8-е изд.)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Предупреждение: эти цитированмия не могут быть всегда правильны на 100%.