Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.