Chuah, S. K. Investigation and modelling of boron diffusion reduction in silicon by fluorine implantation using numerical simulation.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 8)Chuah, Soo Kiet. Investigation and Modelling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Fluorine Implantation Using Numerical Simulation.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.