Minimum leakage current optimization on 22 nm Hafnium Dioxide (HfO2)/Tungsten Silicide (WSIx)/graphene with silicon on insulator (SOI) using Taguchi method /
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| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Software livro eletrônico |
| Idioma: | English |
| Publicado em: |
2019.
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| Assuntos: | |
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Perpustakaan Laman Hikmah Kampus Induk, UTeM: 1
| Área/Cota: |
TK7871.85 .E44 2019 |
|---|---|
| Cópia Unknown | Disponível Localização |
Media Room, Perpustakaan Laman Hikmah Kampus Induk, UTeM: 5
| Área/Cota: |
CDR 19942 |
|---|---|
| Cópia Unknown | Disponível Localização |