Minimum leakage current optimization on 22 nm Hafnium Dioxide (HfO2)/Tungsten Silicide (WSIx)/graphene with silicon on insulator (SOI) using Taguchi method /

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1. Verfasser: Eliya Nabila Firhat (VerfasserIn)
Format: Software E-Book
Sprache:English
Veröffentlicht: 2019.
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