Minimum leakage current optimization on 22 nm Hafnium Dioxide (HfO2)/Tungsten Silicide (WSIx)/graphene with silicon on insulator (SOI) using Taguchi method /
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1. Verfasser: | Eliya Nabila Firhat (VerfasserIn) |
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Format: | Software E-Book |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2019.
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